第232章 美柚轰动全网，雷布斯的出路 (第1/5页)

    虽然芯片工厂问题不大，有帝都提供，王逸可以省下几十亿。

    但里面的生产线，光刻机等设备，都要王逸自己解决。

    这些才是最贵的，保守估计后续投入也得一百五十亿起步。

    像是光刻机，2010年阿斯麦就推出了euv光刻机twinscannxe:3100。

    前世，2013年阿斯麦又推出euv光刻机nxe:3300。

    不过这些先进的euv光刻机，王逸就不考虑了，不现实，不可能对内地企业出售的。

    前世中芯国际订购了一台euv光刻机，花了1.2亿美金，钱都付了，最后因为帝国阻挠，阿斯麦也迟迟没有发货。

    相反，内地企业能买到的，也就是落后很多代的duv光刻机。

    比如2016年出的nxt1980di，是前世内地企业买到的最先进光刻机之一，也是中芯国际主力机型。

    更先进的duv光刻机nxt:2000i，都买不到，更别说nxt:2050i。

    nxt1980di原本用于制造300nm-38nm制程，二重曝光后可以达到19nm制程。

    中芯国际，华力等企业，都是用nxt1980di二重曝光，量产28-19nm的芯片。

    同样，要用nxt:1980di来制造14nm、7nm的芯片，那就得靠多重曝光技术，对厂家的技术要求非常高，量产芯片的成本也很高。

    最初，台积电用nxt:1980di来制造7nm芯片，效果很不理想，良品率低，成本高，最后还是换上euv光刻机，才实现了完美的7nm。

    但中芯国际买不到euv光刻机，只能硬着头皮用nxt1980di进行三重曝光，四重曝光，甚至五重曝光。

    幸好梁老能力突出，在多重曝光领域造诣颇深，硬是推出n 1、n 2工艺，用nxt1980di这种落后的光刻机，实现了14nm、10nm，甚至7nm。

    梁老的两重曝光技术，不但把中芯国际的28nm良品率从50%提到了90%以上，成本也不会增加太多。

    使得中芯国际的28nm工艺大规模量产，能满足大多数芯片需求。

    14nm需要三重曝光，凭借梁老的技术，良品率和成本也能保证。

    可7nm制程，就要用nxt1980di四重曝光，技术方面梁老都能解决，但良品率和成本就不好说了。

    巧妇难为无米之炊。

    拿着nxt1980di当euv3300用，真是太强人所难。

    不过，在国产光刻机突破之前，这也是迫不得已的办法。

    当然，2011年nxt1980di还没有发布。

    王逸当下能买到的光刻机型号，是2009年推出的nxt：1950i，和今年刚推出的nxt：1960bi。

    其实1950i/1960bi/1970ci/1980di，这四款光刻机都是同样的光源系统，单次曝光都在38nm以上，多重曝光都能生产28nm、16nm、14nm、12nm，甚至7nm。

    后续的nxt：1960bi、1970ci、1980di，不过是在nxt：1950i进行了部分升级，提高了良品率和精度，本质上相差不大。

    像是三星台积电的未来几年的28nm、22nm、20nm、16nm、14nm、10nm，很多都是用的nxt：1950i！

    毕竟三星、台积电2016年量产10nm芯片的时候，nxt：1980di光刻机才开始量产！

    7nm之前的制程，三星台积电用的都是1950i、1960bi、1970ci等老型号。

    只要不量产7nm，都没压力。

    同样，王逸的12英寸晶圆厂，若是买到nxt：1950i和1960bi，也能从明年的28nm，一直用到22nm、20nm、16nm、14nm、10nm，甚至7nm。

    但今年刚出的1960bi不太现实，估计阿斯麦不卖。

    不过老款的1950i运作一下，还是有希望的。

    当下欧美对国内的封锁限制，还不是那么严密。

    若是趁机出手，多订一批，那后续就高枕无忧了。

    哪怕溢价买，都不成问题！

    王逸记得，前世euv光刻机要1.2亿美金，1980di要7200万美金。

    而当下的1950i估计会便宜一些。

    为此，王逸拿出手机，开始查数据。

    果然，一台1950i光刻机要4000万欧元，5470万美元，也就是3.5亿人民币。

    进上十台，就是35亿。

    20台就是70亿！